闻讯赶来的黄市长代表东湖高新技术园区，愿意有偿划拨500亩土地，享受高科技企业待遇，邀请曙光东芝电梯公司进入东湖高新技术园区，孙健愉快的接受了邀请。
二十天后，对外贸易部和工商总局审核通过和批准曙光东芝电梯公司的成立，邓涛拿到了批文和营业执照。
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“中村太郎先生，曙光东芝晶圆公司拥有的6英寸晶圆、1um制程工艺的半导体生产线已经满足不了国内快速发展的半导体市场的需求，我建议合资公司投资引进一条东芝半导体公司生产的8英寸晶圆和500nm制程工艺的生产线。”
陈永清团队一旦开发成功GZ-C3000，国内没有晶圆公司能生产，只能委托给台积电或三星晶圆公司，自从PENG在纳斯达克成功上市后，孙健就计划提前引进一条8英寸晶圆和500nm制程工艺的半导体生产线。
“孙董事长，我也赞成引进一条，但如今8英寸晶圆和500nm制程工艺的半导体生产线还在巴T组织的出口管制技术栏目中，我也做不了主，我请示公司总部后再答复孙董事长。”
“我等候中村太郎先生的好消息！”
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“孙董事长，非常遗憾，公司总部虽然也愿意出口一条8英寸晶圆和500nm制程工艺的半导体生产线，但不能违反巴T组织协定，公司总部表示，一旦技术出口管制被取消，公司总部就立马出口。”
二天后，中村太郎来见孙健。
日本是巴T组织的十七个成员国之一。
八七年，东芝旗下的机械公司曾向苏联出口大型数控机床的事件被曝光，引起美国朝野的震怒，直接针对东芝公司进行了严厉的制裁，并且向日本方面提出赔偿要求。
东芝公司为此花了1亿多日元在纽约时报上发布“悔罪广告”，才逃过一劫。
“中村太郎先生，非常遗憾，我只能同其他半导体设备公司展开谈判，引进一条8英寸晶圆和500nm制程工艺的半导体生产线，合资成立另外一家晶圆公司。”
孙健也理解东芝半导体设备公司的苦衷，但自己控股了BSEC和GCA，还参股了ASML、Cymer、MEMC和 Zeiss SMT AG，光刻机的产业布局已经完成，还是双保险！也不可能一直购买东芝半导体生产线，特别是控股GG成功上市后，利用PENG账上的闲置资金，同GCA再成立一家合资晶圆公司的打算。
一举两得！
随着九一年苏联解体，美国遭遇经济衰退，巴T组织就彻底的失去了存在价值，从九一年开始，中G有资格从国外进口许多先进的设备；九三年十一月，巴T成员国的高级官员在荷兰举行会议，一致认为巴T组织已经失去继续存在的理由，但何时解散？还需要老大拍板。
九四年愚人节这一天，巴T组织将被解散！
九六年将被瓦S纳协定代替，但重生者忘记了具体月份？
日本政府和东芝半导体设备公司也不知道巴T组织正式解散的准确日期？
重生者明白，这二年左右的宝贵时间就是国内一个难得的进口高新技术的窗口期，孙健还要耗费巨资，提前将GCA生产的8英寸晶圆和180nm制程工艺的半导体生产线引进来，借助于BSEC的双工作台系统和浸润式光刻系统，打破以美国为首的西方国家对国内进口半导体生产线的技术限制。
12英寸晶圆好像千禧年以后才问世！
东芝半导体设备公司本身也没有能力生产半导体生产线中最核心的光刻机，只能购买尼康和佳能生产的高端和中端光刻机，还购买其他半导体设备厂生产的设备，生产高端和中端半导体生产线。
昔日光刻机的龙头老大GCA如今只能批量生产8英寸晶圆和500nm制程工艺的光刻机，光刻机高端市场被生产8英寸晶圆和350nm制程工艺的尼康光刻机抢走，如今只能在中端市场与佳能、日立、Ultratech、SVG和ASML等竞争。
要想夺回光刻机的高端市场，GCA只能靠光刻机半导体研究院研制成功适应8英寸晶圆和500nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统，一举突破8英寸晶圆和500nm制程工艺的瓶颈，研制成功8英寸晶圆和350nm制程工艺的光刻机。
重生者先后参股Cymer、MEMC和Zeiss SMT AG，就是给GCA一个重获新生的机会，帮助美国公司在光刻机上同日本公司竞争！
半导体产业是国家的经济实力、科技实力和工业生产能力的综合表现，成为国家的战略产业，BSEC的技术实力比GCA相差甚远，要不是在重生者的指导下研制成功光刻机双工作台系统，与GCA谈判的资格都没有。
寄希望BSEikon和GCA实行弯道超车，成为世界第一的光刻机公司只是一种理想。
EUV光刻机堪比大型航空发动机，前世，举国之力研制成功了大型航空发动机，但没有研制成功EUV光刻机。
在重生者的目标中，将GCA打造成技术世界第一的光刻机公司，占据高端光刻机市场，将BSEC打造成中端光刻机公司，在中端市场占据一定市场份额。
重生者不是超人！
能否追上G，只能靠BSEC光刻机半导体研究院的科技人员了！
重生者要是将GCA的专利技术偷偷的拿过来送给BSEC，就等着坐牢！
重生者不想当英雄，更不愿意当烈S！
死过一次的人将名誉地位看得很澹。
与家人和朋友享受生活才是重生后最大的愿望！
GCA重获新生，不仅BSEC获利，重生者也能在瓦S纳协定出台之前，有机会引进一条8英寸晶圆、180nm制程工艺的半导体生产线……
去年底，GCA在研制适合8英寸晶圆和500nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统的过程中，由于在光刻机中安装了一套Zeiss SMT AG生产的新一代光学系统（耗资275万美元），适合8英寸晶圆和500nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统没有研制成功，但光刻机样机制程工艺突破500nm，达到350nm。
意外惊喜！
这款8英寸晶圆和350nm制程工艺的光刻机，被命名为GCA3500A光刻机。
GCA3500A光刻机追上了Nikon3500A光刻机，由于安装有磁悬浮式双工作台系统，制程工艺精度和生产效率明显超过了Nikon3500A光刻机。
GCA3500A光刻机突破了困扰了G制程工艺光刻机的瓶颈！
孙健吩咐艾德里安申请公司股票停牌，邀请Sematech专家组进行技术认证，拿到认证鉴定后，GCA3500A光刻机制造技术分别向美国专利局和世界专利局申请公司发明专利，邀请全球晶圆公司参观GCA3500A光刻机样机。
由美国政府每年财政拨款1亿美元资助的Sematech，宗旨就是提高美国国内半导体产业的技术。(记住本站网址：
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