第939章 光刻机的现状

八五年，机电部（如今的工y部）45所研制成功分步光刻机样机，中k院沪海光学精密机械研究所研制的“扫描式投影光刻机“通过鉴定，采用的都是436纳米g线光源，制程工艺达到1.5um，认为均达到gca生产的...     ...(记住本站网址：www.663d.com)